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光刻胶产业化又传利好 背后公司成立不足5个月 成色几何?

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划重点

01武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A-光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计。

02该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列,其极限分辨率达120nm,工艺宽容度更大,稳定性更高。

03太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立,团队在电子化学品领域深耕二十余载。

04目前,我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平,KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重,国产化率均仅在1%水平。

05除了原材料配方之外的技术领域的突破,国内企业在光刻胶原材料方面存在一定的进口依赖,国内相关光刻胶原材料基本都从日本进口。

以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考

《科创板日报》10月15日讯(编辑 郑远方 记者 郭辉 吴旭光)光刻胶产业化再度传出利好。

据东湖国家自主创新示范区官网今日(10月15日)消息,近日武汉太紫微光电科技有限公司(下称“太紫微公司”)推出的T150 A-光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计。

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该产品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品UV1610,T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm,且工艺宽容度更大,稳定性更高,坚膜后烘留膜率优秀,其对后道刻蚀工艺表现更为友好,通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀,下层介质的侧壁垂直度表现优异”。

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据悉,太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。该团队立足于关键光刻胶底层技术研发,在电子化学品领域深耕二十余载。武汉光电国家研究中心是科技部于2017年批准建设的第一批,也是唯一的一批6个国家研究中心之一,其前身为2003年获批的武汉光电国家实验室(筹)。

值得注意的是,天眼查信息显示,太紫微公司成立于2024年5月31日,注册资本200万元,实控人为朱明强,最终受益股份77%。

除了朱明强本人外,太紫微公司的另外两家股东,湖北高碳光电科技有限公司、武汉市马斯洛普管理咨询合伙企业,朱明强则分别持股100%和8%。

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华中大学官网资料显示,朱明强为华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授,光学与电子信息学院双聘教授。主要研究领域为有机及纳米光电子学,研究方向包括集中于光刻制造、有机纳米光电子学和超分辨率成像。

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太紫微公司的KrF光刻胶产品,是什么水平?

一位光刻胶厂商人士向《科创板日报》记者表示,国产对标国外厂商UV1610产品的光刻胶量产确实是个好消息。

不过,在KrF系列光刻胶产品中,T150 A对标的UV1610产品算是“很常用的胶”,门槛不算高,但由于常用所以需求量会比较大。UV1610产品北京科华、徐州博康等国内厂商都有能力生产。

从市场竞争情况来看,“UV1610这一款产品,实际留给其他厂商的市场空间并不多。”据上述人士称,目前北京科华直接代理了UV1610的原厂,主要为原厂提供代工,其他厂商“玩不了”。而徐州博康主打配方和生产“全国产”,有能力做UV1610,不过目前重心更多放在BARC(底部抗反射涂层)产品上。

其进一步指出,太紫微光称其产品已通过半导体工艺量产验证,并实现配方全自主设计,但最终成效还是要看市场与客户的反馈。据介绍,光刻胶产品在客户端验证周期通常需要2年。

国产光刻胶走到了哪一步?

目前,我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示,其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重,国产化率均仅在1%水平。

西部证券指出,我国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口,本土厂商虽起步较晚,但目前处于国产化加速期。彤程新材华懋科技晶瑞电材上海新阳等国内公司均有G/I线、KrF、ArF胶布局,开发重点为普适性光刻胶和技术难度较低的成熟制程光刻胶,使产品导入后能大范围应用,在产品开发和验证上持续与下游晶圆厂进行积极协作。

据《科创板日报》不完全统计,国内已有多家公司有KrF光刻胶产品布局:

上海新阳称,KrF光刻胶已有销售,销量逐步增加,合肥工厂目前在试生产阶段;晶瑞电材多款KrF光刻胶已量产并供应多家半导体客户。

另外,鼎龙股份称已开发出7款KrF光刻胶产品,包括1款能达到KrF极限分辨率120nm L/S 和130nm Hole的光刻胶;八亿时空上海半导体项目已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂百公斤级别的量产;飞凯材料光致抗蚀剂产品包括应用于半导体领域的i-line及KrF光刻配套Barc材料。

“从根本上来说,国产光刻胶的上游原材料还是要依靠进口,需要突破的是配方,目前国产的光刻胶原材料配方稳定性等较国外有差距。”还有光刻胶从业者向《科创板日报》记者表示,“除了原材料配方之外的技术领域的突破,难度并不算大。”

有新材料领域产业基金投资人士分析认为,“从细分维度来看,原材料、配方这两大因素较为关键。像降本、突破性能指标,匹配下游客户等需要依靠这两部分实现突破。在此基础上,再是生产工艺、设备等方面突破,这些会对降本等产生直接影响。”

另有新材料领域投资人士持有相似观点并表示,国内现在主要研究的是光刻胶原材料配方。‌“相较于技术突破,更值得关注的是这家公司(太紫微公司)使用的主料、辅料都是哪里采购的。目前,国内企业在光刻胶原材料方面存在一定的进口依赖,国内相关光刻胶原材料基本都从日本进口。不排除释放这种消息(小K注:指太紫微公司光刻胶产品通过半导体工艺量产验证),是为企业造势的可能。”

关于太紫微公司T150 A产品的客户端验证进展,以及后续产品系列的研发计划,《科创板日报》记者尝试通过电子邮件与朱明强取得联系,但截至发稿未获回复。

(科创板日报 郑远方 郭辉 吴旭光)
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