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江苏先导微电子申请 1510nm - 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺专利,提高镀膜效果

金融界 2024 年 10 月 17 日消息,国家知识产权局信息显示,江苏先导微电子科技有限公司申请一项名为“1510nm - 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺”的专利,公开号 CN 118773546 A,申请日期为 2024 年 6 月 。

专利摘要显示,一种 1510nm ‑ 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺包括步骤:S1,将基底的表面清洁;S2,为磁控溅射设备的工艺腔选择一对中频 Nb2O5 靶、一对中频 Si 靶、以及 RF 离子源;S3,将基地固定于旋转台的下表面上,将工艺腔抽真空;S4,采用 RF 离子源对基底清洗;S5,磁控溅射设备抓取 Nb2O5/SiO2/Si 膜系数据;S6,旋转台带动基底旋转,基于 Nb2O5/SiO2/Si 膜系数据,开启一对中频 Nb2O5 靶和一对中频 Si 靶中的与镀制的膜层对应的靶的旋转,同时开启一对中频 Nb2O5 靶和一对中频 Si 靶对应的中频电源和 RF 离子源、对应地控制 Ar 气的通入或不通入以及氧气的通入或不通入并维持工艺腔排气以维持工艺室的流动式压力;S7,依照膜系数据镀制完成整个膜系。

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